Enscape 的最新版本 4.2 为您提供了特定于主机应用程序的功能，以便与设计应用程序更紧密地集成。这一系列更新增强了 Enscape 最重要的优势——它与主机应用程序的无缝集成，使您能够比以往更快、更精确地工作。更新列表如下：
- Revit 图形覆盖
- 支持 Rhino 中的 WCS 映射
- 软件光线追踪改进
- Rhino 和 Vectorworks 的多个剖面
- Archicad 28 支持
- 艺术视觉模式改进
该版本还包括Enscape Impact 的商业发布，这是一个全新的附加组件，旨在将实时渲染与建筑性能指标相结合！
让我们开始吧。
Enscape 影响
Enscape Impact是一款适用于 Windows 的建筑性能分析插件，可与 Enscape 核心产品配合使用。Enscape 用户有机会在Enscape 4.1中测试测试版。现在，我们很高兴推出商业版本。
Enscape Impact 让您可以在设计的早期阶段查看建筑物的能源性能，从而使您能够就设计的可持续性做出明智的决策。
通过提供快速能源建模模拟，您可以在设计时立即计算和比较关键性能指标，例如峰值冷却和加热负荷。数据还可以在渲染中看到，从而更容易理解和传达设计决策的影响。
它是与全球气候技术公司IES合作开发的，与 Enscape 4.1 和 Enscape 4.2 兼容。请访问Enscape Impact 页面了解更多信息。
Revit 图形覆盖
Revit 图形覆盖功能可让您在Revit 过滤器定义的渲染中可视化材质和颜色覆盖。它可确保渲染工具反映 Revit 中使用的相同对象外观和覆盖，从而增强工作流程和演示功能。
这样，您就可以保持Revit 和 Enscape之间的一致性，从而简化设计和演示过程。您还可以通过在 Enscape 中显示或隐藏 Revit 过滤器覆盖来更好地控制渲染视图。在Enscape 知识库中了解更多信息。
支持 Rhino 中的 WCS 映射
此功能允许您利用世界坐标系 (WCS) 映射材质，提供更灵活的工作流程并确保真实世界的比例和准确性。您可以利用现有的Rhino UI 在 UV 和 WCS 映射之间切换，而无需在 Enscape 中进行额外设置。您还可以高效地使用默认为 WCS 映射的库材质，并通过精确的材质渲染获得更准确的视觉输出。
软件光线追踪改进
Enscape 4.2 改进了全局照明和太阳阴影的软件光线追踪。这些增强功能可让您在任何设备（包括 Mac 和集成显卡的机器）上提供高质量的渲染。自信地预测光线在现实世界中将如何与您的建筑物或空间互动，从而做出更好的设计决策。
软件光线追踪全局照明改进使您的渲染更加逼真，具有逼真的照明、细致的阴影、镜面反射和增强的色彩准确性。同样，软件光线追踪太阳阴影增强功能将使它们受益于更准确的光线方向、强度和柔和度。
虽然渲染可以实现与硬件光线追踪相当的视觉保真度，但仍存在一些限制。例如，使用软件光线追踪时，几何体在全局照明的反射中可能仍然缺失。此外，光线追踪太阳阴影仅适用于捕捉，没有彩色太阳阴影，并且当场景包含一定数量的动画几何体时，动画几何体将在较低质量设置下切换为非光线追踪太阳阴影。
Rhino 和 Vectorworks 的多个剖面
此次更新使 Enscape 能够支持在 Rhino 中渲染最多六个剖面和在Vectorworks中渲染剪切立方体，从而通过更详细的横截面可视化提高设计精度和清晰度。
剖面图对于理解和传达建筑空间至关重要。此更新允许更多控制选项，让您可以准确地讲述设计叙述。您还将受益于更好的客户理解和更具影响力的演示，以及改进的设计细节和清晰度。
艺术视觉模式改进
艺术视觉模式是一种渲染样式，可让您在设计过程的概念阶段轻松阐明您的想法。 Enscape 4.2 中的更新在水彩模式下引入了可调节的纹理控制，彩色铅笔和水彩模式现在显示透明材料的色调，而不是到处都是浅蓝色。
Archicad 28 支持
Enscape 4.2 支持Windows 和 Mac 上最新版本的Archicad 。
充分利用 Enscape 4.2 更新
Enscape 4.2的更新让您能够比以往更快、更精确地使用所选的主机应用程序。随着 Enscape Impact 的商业发布，您可以通过将性能数据集成到工作流程中来从一开始就做出可持续的设计决策。
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